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芯源微已经成为国内唯一可提供量产型中高端涂胶显影设备的企业。
光刻工序是集成电路制造的重中之重，占据产线上50%的时间和30%的成本。它也是整条芯片产线上国产设备替代率最低的工艺环节——前道光刻机国产替代率不足3%，而产线上唯一与其联机作业的前道涂胶显影设备，长期被日本企业高度垄断，国产替代率不足10%。
涂胶显影机与光刻机、光刻胶被称为光刻工序的三大要素。芯源微立足自主研发，深度耕耘，已经成为国内唯一可提供量产型中高端涂胶显影设备的企业。
“芯源微是沈阳IC装备产业联盟的先锋。2002年芯源微创立时，国内半导体市场还没有形成，没有产品、没有供应链，最重要的是没有市场、没有客户。”芯源微创始人、荣誉董事长宗润福表示。芯源微立足自主研发，顽强地活了下来，从4寸、6寸做到8寸、12寸，从LED做到后道先进封装、做到前道领域。2019年芯源微在上交所科创板成功上市，是“辽宁省科创板第一股”，目前已经发展成为国内涂胶显影细分领域龙头企业。
芯源微在国产替代的道路上披荆斩棘，克服了重重艰难险阻：
一是涂胶显影设备本身的高度复杂性。从设备结构看，最先进的涂胶显影机有超过150个单元，10余个机械手，每小时进行上万次机电动作。从工艺难度看，涂胶就像在足球场上铺地板，高低差要控制在一根头发丝以内。
二是涂胶显影机要与芯片产线上最昂贵、最重要的光刻机联机作业。宗润福表示：“联机验证难，更重要的是决不能拖累光刻机，我们必须对产品的产能、良率和可靠性有高要求。”
三是日系设备起步早、积累深厚，对国内市场形成高度垄断，垄断率超过90%。随着研发进程持续推进，产品迭代突破，芯源微将进一步推进国产替代进程。
国产替代率低意味着发展空间极大。芯源微的前道设备已经覆盖了28纳米以上所有工艺节点，覆盖了中国半导体90%以上的成熟工艺。其中，前道物理清洗设备已经达到国际先进水平，成功实现国产替代，国内市占率第一；前道化学清洗设备聚焦先进制程，瞄准国外长期垄断环节，芯源微已成为国内首个通过高温硫酸清洗工艺验证并获得重复订单的企业。在后道先进封装领域，芯源微作为成套工艺设备提供商，产品市占率超过50%，成为客户端主力量产设备商，同时持续布局2.5D、3D封装等新兴领域，发展新增长点。
在谈到为什么“六小虎”能在沈阳发展壮大时，宗润福表示：“辽沈的装备制造业有产业基础和配套优势，沈阳的人才既稳定，又具备工匠精神、研发精神。在省市区各级政府的有机组织与持续支持下，沈阳零部件与半导体装备在全国范围内都具备一定影响力。”
芯源微立足辽沈，坚定自主研发，研发费用连续多年保持在营业收入的10%以上。2024年，其研发投入达2.97亿元，同比增加近50%。技术上的研发突破，即将批量转化为市场上的累累硕果。
校对：冉燕青
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